一種具有高透過(guò)率的減反射鍍膜光學(xué)蓋板及制備方法
一種具有高透過(guò)率的減反射鍍膜光學(xué)蓋板及制備方法
需要增透減反技術(shù)可以聯(lián)系我們上海工廠18917106313
上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件的高科技企業(yè),公司2005年成立在上海閔行零號(hào)灣創(chuàng)業(yè)園區(qū),專業(yè)的光電鍍膜公司,技術(shù)背景依托中國(guó)科學(xué)院,卷柔產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工;光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡,平板顯示,安防監(jiān)控等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)和生產(chǎn),為全球客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。
摘要
本論文針對(duì)光學(xué)設(shè)備對(duì)高透光性能的需求,研究一種具有高透過(guò)率的減反射鍍膜光學(xué)蓋板及其制備方法。通過(guò)優(yōu)化鍍膜材料配方、**鍍膜工藝,實(shí)現(xiàn)光學(xué)蓋板在寬光譜范圍內(nèi)的低反射與高透光性能。實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)表明,該光學(xué)蓋板在可見(jiàn)光及近紅外波段平均反射率低于 1%,平均透過(guò)率超過(guò) 98%,顯著提升光學(xué)設(shè)備的成像質(zhì)量與光線利用率,為光學(xué)領(lǐng)域的發(fā)展提供了新的技術(shù)方案與應(yīng)用思路。
關(guān)鍵詞:高透過(guò)率;減反射鍍膜;光學(xué)蓋板;制備方法;寬光譜
一、引言
在光學(xué)儀器、顯示設(shè)備、光電探測(cè)等領(lǐng)域,光學(xué)蓋板作為光線傳輸?shù)闹匾考?,其光學(xué)性能直接影響設(shè)備整體表現(xiàn)。傳統(tǒng)光學(xué)蓋板因表面反射導(dǎo)致光線損失,降低設(shè)備的成像清晰度、探測(cè)靈敏度與顯示亮度。隨著 5G、AR/VR、智能車(chē)載顯示等新興技術(shù)的發(fā)展,對(duì)光學(xué)蓋板高透過(guò)率、低反射率的需求愈發(fā)迫切。研發(fā)一種具有高透過(guò)率的減反射鍍膜光學(xué)蓋板,對(duì)提升光學(xué)設(shè)備性能、推動(dòng)光學(xué)產(chǎn)業(yè)升級(jí)具有重要意義。
二、高透過(guò)率減反射鍍膜光學(xué)蓋板的設(shè)計(jì)原理
2.1 光學(xué)干涉減反射原理
高透過(guò)率減反射鍍膜光學(xué)蓋板基于光學(xué)干涉原理實(shí)現(xiàn)減反射效果。當(dāng)光線從空氣入射到光學(xué)蓋板表面時(shí),因空氣與蓋板材料折射率差異產(chǎn)生反射。通過(guò)在蓋板表面鍍制多層具有不同折射率與厚度的薄膜,每層薄膜的上下表面反射光會(huì)產(chǎn)生光程差。當(dāng)光程差滿足特定條件(如半波長(zhǎng)的奇數(shù)倍)時(shí),反射光相位差達(dá)到 180°,相互干涉抵消,從而減少反射光強(qiáng)度,增加光線透過(guò)率。通過(guò)**設(shè)計(jì)膜系結(jié)構(gòu),可在特定光譜范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)高效減反射。
2.2 膜系結(jié)構(gòu)優(yōu)化設(shè)計(jì)
為實(shí)現(xiàn)寬光譜高透過(guò)率,需對(duì)膜系結(jié)構(gòu)進(jìn)行優(yōu)化。采用多層膜結(jié)構(gòu),結(jié)合高折射率材料(如 TiO?、Ta?O?)與低折射率材料(如 SiO?)交替沉積。利用光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)軟件,通過(guò)理論計(jì)算與模擬,調(diào)整各膜層的材料、厚度及層數(shù),使膜系在可見(jiàn)光(400 - 760nm)及近紅外(760 - 1100nm)波段滿足干涉相消條件,同時(shí)兼顧膜層的機(jī)械強(qiáng)度與化學(xué)穩(wěn)定性。
三、鍍膜材料的選擇與特性
3.1 高折射率材料
選用二氧化鈦(TiO?)與五氧化二鉭(Ta?O?)作為高折射率材料。TiO?在可見(jiàn)光與近紅外波段具有較高折射率(n ≈ 2.3 - 2.5),化學(xué)穩(wěn)定性好,且成本較低。Ta?O?折射率更高(n ≈ 2.1 - 2.2),且具有優(yōu)異的硬度與耐磨性,適用于對(duì)膜層機(jī)械性能要求高的場(chǎng)景。兩種材料搭配使用,可優(yōu)化膜系折射率梯度,提升減反射效果 。
3.2 低折射率材料
采用二氧化硅(SiO?)作為低折射率材料,其折射率較低(n ≈ 1.45),透光性好,在寬光譜范圍內(nèi)吸收損耗低。SiO?化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,與高折射率材料兼容性強(qiáng),是制備減反射膜的理想選擇。通過(guò)調(diào)整 SiO?膜層厚度與沉積工藝,可**控制膜系的光學(xué)性能。
3.3 功能添加劑
在鍍膜材料中添加微量功能性添加劑,如納米級(jí)氧化鋁(Al?O?)顆粒。Al?O?可增強(qiáng)膜層的硬度與抗刮擦性能,同時(shí)改善膜層的致密性,減少因環(huán)境因素導(dǎo)致的膜層老化與性能衰減,延長(zhǎng)光學(xué)蓋板的使用壽命。
四、高透過(guò)率減反射鍍膜光學(xué)蓋板的制備方法
4.1 光學(xué)蓋板基板預(yù)處理
選用上等光學(xué)玻璃或藍(lán)寶石作為基板,先使用去離子水與中性清洗劑進(jìn)行超聲波清洗,去除表面油污、灰塵等雜質(zhì);再用高純度乙醇進(jìn)行擦拭,進(jìn)一步去除殘留污漬;*后通過(guò)等離子體清洗機(jī)處理,提升基板表面活性,增強(qiáng)鍍膜與基板間的附著力。
4.2 鍍膜工藝
采用磁控濺射鍍膜技術(shù),在真空環(huán)境下(氣壓低于 10?3 Pa)進(jìn)行鍍膜。以高純金屬靶材(Ti、Ta、Si)為原料,通過(guò)氬離子轟擊靶材,使靶材原子或分子沉積在基板表面。鍍膜過(guò)程中**控制濺射功率、氣體流量、基板溫度等參數(shù):
?濺射功率:高折射率材料(TiO?、Ta?O?)濺射功率控制在 100 - 150W,低折射率材料(SiO?)控制在 80 - 120W;
?氣體流量:氬氣流量為 20 - 30 sccm,氧氣流量為 5 - 10 sccm,確保金屬靶材充分氧化;
?基板溫度:保持在 150 - 200℃,促進(jìn)膜層結(jié)晶,提升膜層均勻性與致密性。
4.3 后處理工藝
鍍膜完成后,將光學(xué)蓋板放入高溫退火爐中,以 5℃/min 的升溫速率加熱至 300 - 400℃,保溫 1 - 2 小時(shí)后隨爐冷卻。退火處理可消除膜層內(nèi)應(yīng)力,改善膜層結(jié)構(gòu),進(jìn)一步提升光學(xué)蓋板的光學(xué)性能與機(jī)械性能。
五、性能測(cè)試與分析
5.1 光學(xué)性能測(cè)試
使用分光光度計(jì)測(cè)試光學(xué)蓋板在 300 - 1100nm 波長(zhǎng)范圍內(nèi)的反射率與透過(guò)率。結(jié)果顯示,未鍍膜基板在可見(jiàn)光波段平均反射率約為 8%,透過(guò)率約為 90%;經(jīng)過(guò)本方法鍍膜后的光學(xué)蓋板,在 400 - 1100nm 波段平均反射率低于 1%,平均透過(guò)率超過(guò) 98%,顯著降低光線反射損失,提高光線透過(guò)效率。
5.2 機(jī)械性能測(cè)試
采用鉛筆硬度測(cè)試法評(píng)估膜層硬度,結(jié)果顯示膜層硬度達(dá)到 6H 以上;通過(guò)百格測(cè)試法檢測(cè)膜層附著力,在 1mm×1mm 方格劃刻后,使用 3M 膠帶粘貼撕拉,膜層無(wú)脫落現(xiàn)象,表明膜層與基板結(jié)合牢固,具備良好的機(jī)械穩(wěn)定性。
5.3 環(huán)境耐受性測(cè)試
將光學(xué)蓋板置于高溫高濕環(huán)境(85℃,85% RH)中持續(xù) 96 小時(shí),以及進(jìn)行 - 40℃至 80℃的高低溫循環(huán)測(cè)試(循環(huán)次數(shù) 50 次)。測(cè)試后光學(xué)蓋板的光學(xué)性能與機(jī)械性能無(wú)明顯衰減,證明其具有優(yōu)異的環(huán)境耐受性。
六、結(jié)論
本研究成功制備了一種具有高透過(guò)率的減反射鍍膜光學(xué)蓋板,通過(guò)優(yōu)化膜系設(shè)計(jì)、精選鍍膜材料與**制備工藝,實(shí)現(xiàn)了寬光譜范圍內(nèi)的低反射與高透光性能。該光學(xué)蓋板在光學(xué)性能、機(jī)械性能與環(huán)境耐受性方面表現(xiàn)優(yōu)異,可廣泛應(yīng)用于**光學(xué)儀器、智能顯示設(shè)備、車(chē)載抬頭顯示(HUD)等領(lǐng)域。未來(lái)可進(jìn)一步探索新型鍍膜材料與工藝,優(yōu)化膜系結(jié)構(gòu),以滿足更高性能要求,推動(dòng)光學(xué)蓋板技術(shù)的持續(xù)發(fā)展。
關(guān)于我們
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采用德國(guó)薄膜制備工藝,形成了一套具有嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系,能夠制備各種超高性能光學(xué)薄膜,包括紅外薄膜、增透膜,ARcoating,激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜,應(yīng)用領(lǐng)域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、光學(xué)科研,紅外制導(dǎo)、面部識(shí)別、VR/AR應(yīng)用,博物館,低反射櫥窗玻璃,畫(huà)框,工業(yè)燈具照明,廣告機(jī),點(diǎn)餐機(jī),電子白板,安防監(jiān)控等。卷柔新技術(shù)擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的全自動(dòng)生產(chǎn)線【sol-gel溶膠凝膠法鍍膜線】,這條生產(chǎn)線能夠生產(chǎn)全球先進(jìn)的減反射玻璃。鍍膜版面可達(dá)到2440*3660mm,玻璃厚度從0.3mm到12mm都可以,另外針對(duì)PC,PMMA方面的增透膜也具有量產(chǎn)生產(chǎn)能力。ARcoating減反膜基本接近無(wú)色,色彩還原性好,并且可以避免了磁控濺射的缺點(diǎn),鍍完增透膜后玻璃可以做熱彎處理和鋼化處理以及DIP打印處理。這個(gè)難度和具有很好的應(yīng)用性,新意突出,實(shí)用性突出,濕法鍍膜在價(jià)格方面也均優(yōu)于真空磁控的干法。
卷柔減反射(AR)玻璃的特點(diǎn):高透,膜層無(wú)色,膜硬度高,抗老化性強(qiáng)(耐候性強(qiáng)于玻璃),玻璃長(zhǎng)期使用存放不發(fā)霉,且有一定的自潔效果.AR增透減反膜玻璃產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于**文博展示、低反射幕墻、廣告機(jī)玻璃、節(jié)能燈具蓋板玻璃、液晶顯示器保護(hù)玻璃等多行業(yè)。
我們的愿景:卷柔讓光學(xué)更具價(jià)值!
我們的使命:有光的地方就有卷柔新技術(shù)!
我們的目標(biāo):以高質(zhì)量的產(chǎn)品,優(yōu)惠的價(jià)格,貼心的服務(wù),為客戶提供優(yōu)良的解決方案。
上海卷柔科技以現(xiàn)代鍍膜技術(shù)為核心驅(qū)動(dòng)力,通過(guò)鍍膜設(shè)備、鍍膜加工、光學(xué)鍍膜產(chǎn)品服務(wù)于客戶,努力為客戶創(chuàng)造新的利潤(rùn)空間和競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì),為中國(guó)的民族制造業(yè)的發(fā)展貢獻(xiàn)力量。