芯片減薄劃切過(guò)程中的UV膜與藍(lán)膜特性簡(jiǎn)介
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上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件的高科技企業(yè)，公司2005年成立在上海閔行零號(hào)灣創(chuàng)業(yè)園區(qū)，專業(yè)的光電鍍膜公司，技術(shù)背景依托中國(guó)科學(xué)院，卷柔產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工；光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡，平板顯示，安防監(jiān)控等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)，為全球客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。
Wafer在減薄之前，會(huì)在Wafer的正面貼一層粘性膜，該層膜的作用是在Wafer正面固定芯片，便于磨片機(jī)在Wafer的背面研磨硅片。一般研磨之前硅片的厚度在700 μm左右，研磨之后，Wafer的厚度變?yōu)?00 μm，甚至達(dá)到120 μm的程度，具體將視客戶要求和芯片的應(yīng)用環(huán)境情況而定，即Wafer減薄過(guò)程。Wafer在劃片之前，會(huì)將Wafer的背面粘一層膜，該層膜的作用是將芯片粘在膜上，可以保持晶粒在切割過(guò)程中的完整，減少切割過(guò)程中所產(chǎn)生的崩碎，確保晶粒在正常傳送過(guò)程中不會(huì)有位移和掉落的情況，即芯片后封測(cè)環(huán)節(jié)中的劃切過(guò)程，
如上所述，芯片減薄劃切過(guò)程中都用到了一種用于固定Wafer和固定芯片作用的膜。實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中，該種膜一般使用UV膜或藍(lán)膜。UV膜和藍(lán)膜在芯片減薄劃切過(guò)程中具有非常重要的作用，但兩者特性有明顯的區(qū)別。UV膜和藍(lán)膜均具有粘性，其粘性程度使用粘性剝離度來(lái)表示，通常單位使用N/20 mm或者N/25 mm，例如1 N/20 mm的意義是測(cè)試條寬度為20 mm，用180°的剝離角度從測(cè)試版上將其剝離的力是1 N。UV膜是將特殊配方的涂料涂布于PET薄膜基材表面，達(dá)到阻隔紫外光及短波長(zhǎng)可見(jiàn)光的效果，圖1所示為通用的UV膜結(jié)構(gòu)圖。一般UV膜由3層構(gòu)成，其基層材質(zhì)為聚乙烯氯化物，粘性層在中間，與粘性層相鄰的為覆層（Release film），部分UV膜型號(hào)沒(méi)有該覆層。UV膜通常叫紫外線照射膠帶，價(jià)格相對(duì)較高，未使用時(shí)有效期較短，它分為高粘性、中粘性和低粘性三種，對(duì)于高粘性的UV膜而言，其未經(jīng)過(guò)紫外線照射時(shí)粘性很大，粘性剝離度大約在 5 000 m N/20 m m 到12 000 mN/20 mm左右，但是在紫外線燈光照射的時(shí)間延長(zhǎng)和照射強(qiáng)度增加之后，剝離粘性度會(huì)降到1 000 mN/20 mm以下；對(duì)于低粘性的UV膜而言，未經(jīng)過(guò)UV照射時(shí)，其剝離粘性度在1 000 mN/20 mm左右，而經(jīng)過(guò)紫外線照射之后，其剝離粘性度會(huì)降到 100 mN/20 mm 左右；中粘性的UV膜的粘性剝離度介于高粘性UV膜和低粘性UV膜之間。低粘性的UV膜在通過(guò)一定時(shí)間和一定強(qiáng)度的紫外線照射后，盡管其粘性剝離度會(huì)降到100 mN/20 mm 左右，但在Wafer的表面不會(huì)有殘膠現(xiàn)象，晶粒容易取下；同時(shí)，UV膜具有適當(dāng)?shù)臄U(kuò)張性，在減薄劃片的過(guò)程中，水不會(huì)滲入晶粒和膠帶之間。藍(lán)膜通常叫電子級(jí)膠帶，價(jià)格較低，它是一種藍(lán)色的粘性度不變的膜，相對(duì)于未經(jīng)過(guò)紫外線照射的高粘性UV膜，其粘性剝離度一般較低，對(duì)紫外線并不敏感，在（1 000 ~3 000）mN/20 mm間不等，而且受溫度影響會(huì)發(fā)生殘膠；*早命名是由于該膠帶為藍(lán)色，現(xiàn)在隨著技術(shù)的發(fā)展，也陸續(xù)出現(xiàn)了其他的顏色，而且用途也得到拓寬。UV膜和藍(lán)膜相比，UV膜較藍(lán)膜穩(wěn)定。UV膜無(wú)論在紫外線照射之前還是照射之后，UV膜的粘性度都比較穩(wěn)定，但成本較高；藍(lán)膜成本相對(duì)比較便宜，但是粘性度會(huì)隨著溫度的變化而發(fā)生變化，而且容易殘膠。3、 UV膜和藍(lán)膜在生產(chǎn)中的應(yīng)用分析通常來(lái)說(shuō)，對(duì)于小芯片減薄劃片時(shí)使用UV膜，對(duì)于大芯片減薄劃片時(shí)使用藍(lán)膜，因?yàn)椋琔V膜的粘性可以使用紫外線的照射時(shí)間和強(qiáng)度來(lái)控制，防止芯片在抓取的過(guò)程中漏抓或者抓崩。若芯片在減薄劃切之后，直接上倒封裝標(biāo)簽生產(chǎn)線，那么*好使用UV膜，因?yàn)榈狗庋b標(biāo)簽生產(chǎn)線所使用的芯片一般均較小，而且設(shè)備頂針在藍(lán)膜底部將芯片頂起。如果使用較大粘性剝離度的藍(lán)膜，可能使得頂針在頂起芯片過(guò)程中將芯片頂碎。RFID芯片面積一般均小于750 μm×750 μm，藍(lán)膜加框后的Wafer通常直接進(jìn)行倒封裝為Inlay或者標(biāo)簽，因此RFID芯片在后封測(cè)時(shí)通常使用UV膜。藍(lán)膜由于其受溫度影響粘性度會(huì)發(fā)生變化，而且本身粘性度較大，因此，一般面積較大的芯片或者Wafer剪薄劃切之后直接進(jìn)行后封裝工藝，而非直接進(jìn)行倒封裝工藝做Inlay時(shí)，可以考慮使用藍(lán)膜 [7] 。現(xiàn)階段，針對(duì)芯片尺寸小于1 mm的芯片，通常使用型號(hào)為D?184的低粘性UV膜。該UV膜僅僅有基層和粘性層，沒(méi)有覆層，其基層為PVC材料，厚度為80 μm，粘性層為丙烯酸樹(shù)脂漆（Acrylic），其厚度為10 μm，未經(jīng)過(guò)紫外線照射之前的粘性剝離度為1 100 mN/25 mm，經(jīng)過(guò)UV照射之后，粘性剝離度為70 mN/25 mm，因此其粘性范圍可以在（70~1 100）mN/25 mm內(nèi)調(diào)整。該型號(hào)的UV膜具有一些特點(diǎn)：其一，該型號(hào)的UV膜，在硅片表面使用剝離角度為180°進(jìn)行剝離時(shí)，其速度可以達(dá)到300 mN/25 mm；其二，該UV膜規(guī)定了自己的照射條件，紫外線照射密度為230m W /cm2 ，紫外線照射功率為190 mJ/cm 2 ；其三，輻射的紫外線波長(zhǎng)應(yīng)在365 nm左右。該UV膜實(shí)際使用時(shí)可能出現(xiàn)了一些問(wèn)題，即在倒封裝生產(chǎn)線上出現(xiàn)了芯片漏抓的情況，主要是由于紫外線設(shè)備的功率沒(méi)有達(dá)到指定的要求，因此，在照射過(guò)程中，需要延長(zhǎng)照射時(shí)間，來(lái)補(bǔ)充照射強(qiáng)度不夠的問(wèn)題。如果遇到UV燈功率（能量）不足時(shí)，建議：其一，擦凈UV燈管和燈罩，改善UV光的反射效果；其二，UV燈老化應(yīng)更換，瑞森特UV燈使用壽命1 500 h就應(yīng)該更換；其三，提高UV燈管單位長(zhǎng)度內(nèi)的功率，保證達(dá)到 80~120 W/cm；其四，紫外線燈管使用一段時(shí)間后，燈管應(yīng)旋轉(zhuǎn) 1 4 再用。采用D?184型UV膜實(shí)踐加工了多片Wafer，當(dāng)照射時(shí)間控制在40~45 s時(shí)，后端倒封裝工藝進(jìn)行非常順利，若小于規(guī)定的時(shí)間，則會(huì)出現(xiàn)漏摘甚至崩碎的芯片，因此根據(jù)UV膜的特性，調(diào)整合適的粘性度，能夠提高芯片產(chǎn)業(yè)化效率。UV膜與藍(lán)膜相比，它的粘性剝離度可變性使得其優(yōu)越性很大，主要作用為：用于 Wafer 減薄過(guò)程中對(duì)Wafer進(jìn)行固定；Wafer劃切過(guò)程中，用于保護(hù)芯片，防止其脫落或崩片；用于Wafer的翻轉(zhuǎn)和運(yùn)輸，防止已經(jīng)劃切之后的芯片發(fā)生脫落。規(guī)范使用UV膜和藍(lán)膜的各個(gè)參數(shù)，根據(jù)芯片所需要加工的工藝，選擇合適的UV膜或者藍(lán)膜，既可以節(jié)省成本，亦可以加快推進(jìn)芯片產(chǎn)業(yè)化。
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采用德國(guó)薄膜制備工藝，形成了一套具有嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系，能夠制備各種超高性能光學(xué)薄膜，包括紅外薄膜、增透膜，ARcoating,激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜，應(yīng)用領(lǐng)域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、光學(xué)科研，紅外制導(dǎo)、面部識(shí)別、VR/AR應(yīng)用,博物館，低反射櫥窗玻璃，畫框，工業(yè)燈具照明，廣告機(jī)，點(diǎn)餐機(jī)，電子白板，安防監(jiān)控等。
卷柔新技術(shù)擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的全自動(dòng)生產(chǎn)線【sol-gel溶膠凝膠法鍍膜線】，這條生產(chǎn)線能夠生產(chǎn)全球先進(jìn)的減反射玻璃。鍍膜版面可達(dá)到2440*3660mm，玻璃厚度從0.3mm到12mm都可以,另外針對(duì)PC,PMMA方面的增透膜也具有量產(chǎn)生產(chǎn)能力。ARcoating減反膜基本接近無(wú)色,色彩還原性好，并且可以避免了磁控濺射的缺點(diǎn)，鍍完增透膜后玻璃可以做熱彎處理和鋼化處理以及DIP打印處理。這個(gè)難度和具有很好的應(yīng)用性，新意突出，實(shí)用性突出，濕法鍍膜在價(jià)格方面也均優(yōu)于真空磁控的干法。
卷柔減反射(AR)玻璃的特點(diǎn):高透,膜層無(wú)色,膜硬度高,抗老化性強(qiáng)(耐候性強(qiáng)于玻璃),玻璃長(zhǎng)期使用存放不發(fā)霉,且有一定的自潔效果.AR增透減反膜玻璃產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于**文博展示、低反射幕墻、廣告機(jī)玻璃、節(jié)能燈具蓋板玻璃、液晶顯示器保護(hù)玻璃等多行業(yè)。
我們的愿景：卷柔讓光學(xué)更具價(jià)值！
我們的使命：有光的地方就有卷柔新技術(shù)！
我們的目標(biāo)：以高質(zhì)量的產(chǎn)品，優(yōu)惠的價(jià)格,貼心的服務(wù)，為客戶提供優(yōu)良的解決方案。
上海卷柔科技以現(xiàn)代鍍膜技術(shù)為核心驅(qū)動(dòng)力，通過(guò)鍍膜設(shè)備、鍍膜加工、光學(xué)鍍膜產(chǎn)品服務(wù)于客戶，努力為客戶創(chuàng)造新的利潤(rùn)空間和競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，為中國(guó)的民族制造業(yè)的發(fā)展貢獻(xiàn)力量。
