技術(shù)前沿：各種蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜

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上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件的高科技企業(yè)，公司2005年成立在上海閔行零號灣創(chuàng)業(yè)園區(qū)，專業(yè)的光電鍍膜公司，技術(shù)背景依托中國科學(xué)院，卷柔產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工；光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡，平板顯示，安防監(jiān)控等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開發(fā)和生產(chǎn)，為全球客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。

真空鍍膜技術(shù)簡稱PVD，在真空條件下，采用物理方法，使材料源表面氣化成原子、分子或離子，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。真空鍍膜設(shè)備鍍膜技術(shù)主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍?nèi)箢?。而蒸發(fā)鍍膜技術(shù)也分為三種，電阻蒸發(fā)，電子束蒸發(fā)，感應(yīng)加熱蒸發(fā)。

真空鍍膜設(shè)備鍍膜技術(shù)大方向來分有三種，蒸發(fā)鍍膜技術(shù)，離子鍍膜技術(shù)，磁控濺射鍍膜設(shè)備，每種鍍膜技術(shù)都有各自的優(yōu)缺點，鍍制不同的基材，不同的靶材，選擇的鍍膜技術(shù)是不相同的。

電阻蒸發(fā)鍍膜技術(shù)采用電阻加熱蒸發(fā)源的蒸發(fā)鍍膜技術(shù)，一般用于蒸發(fā)低熔點材料，如鋁、金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等；加熱電阻一般采用鎢、鉬、鉭等。奇優(yōu)點，結(jié)構(gòu)簡單，成本低。缺點材料易與坩堝反應(yīng)，影響薄膜純度，不能蒸鍍高熔點的介電薄膜；蒸發(fā)率低。    

電阻蒸發(fā)鍍

電子束蒸發(fā)，利用高速電子束加熱使材料汽化蒸發(fā)，在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。電子束熱源的能量密度可達104-109w/cm2，可達到3000℃以上，可蒸發(fā)高熔點的金屬或介電材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AL2O3等。

電子束蒸發(fā)的主要原理：高真空環(huán)境下，通過電子槍發(fā)出的高能電子，在電場和磁場作用下，電子轟擊靶材表面使動能轉(zhuǎn)化為熱能，靶材升溫，變成熔融狀態(tài)或者直接蒸發(fā)出去，在襯底表面沉積成薄膜。    

電子束加熱的蒸鍍源有直槍型電子槍和e型電子槍兩種(也有環(huán)行)，電子束自源發(fā)出，用磁場線圈使電子束聚焦和偏轉(zhuǎn)，對膜料進行轟擊和加熱。其優(yōu)點可蒸發(fā)任何材料，薄膜純度高，直接作用于材料表面，熱效率高。缺點電子槍結(jié)構(gòu)復(fù)雜，造價高，化合物沉積時易分解，化學(xué)比失調(diào)。    

感應(yīng)加熱蒸發(fā)，利用高頻電磁場感應(yīng)加熱，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。其優(yōu)點蒸發(fā)速率大，可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右，蒸發(fā)源的溫度穩(wěn)定，不易產(chǎn)生飛濺現(xiàn)象，坩堝溫度較低，坩堝材料對膜導(dǎo)污染較少。其缺點蒸發(fā)裝置必須屏蔽，造價高、設(shè)備復(fù)雜。

發(fā)真空鍍膜設(shè)備這三種蒸發(fā)鍍膜技術(shù)雖然原理都是一樣，都是通過高溫蒸發(fā)材質(zhì)汽化的方式鍍膜，但是所應(yīng)用的環(huán)境卻不一樣，鍍的膜材和基材也有不同的要求。

高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)是將裝有鍍膜材料的坩堝放置在高頻螺旋線圈的中心，使鍍膜材料在高頻電磁場的感應(yīng)下產(chǎn)生強大的渦流電流和磁滯效應(yīng)，致使膜層升溫，直至氣化蒸發(fā)。蒸發(fā)源一般有水冷高頻線圈和石墨或者陶瓷(氧化鎂、氧化鋁、氧化硼等)坩堝組成。高頻電源采用的頻率為1萬至幾十萬赫茲，輸入功率為幾至幾百千瓦，膜材體積越小，感應(yīng)頻率越高。感應(yīng)線圈頻率通常用水冷銅管制造。高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)方法的缺點是不易對輸入功率進行微調(diào)，它有下述優(yōu)點:    

1、蒸發(fā)速率大:

2、蒸發(fā)源溫度均勻穩(wěn)定，不易產(chǎn)生鍍料液滴飛濺的現(xiàn)象

3、蒸發(fā)源一次裝料，溫度控制比較容易，操作簡單。

磁控濺射鍍膜優(yōu)勢介紹

磁控濺射工藝的主要優(yōu)點是可以使用反應(yīng)性或非反應(yīng)性鍍膜工藝來沉積這些材料的膜層，并且可以很好地控制膜層成分、膜厚、膜厚均勻性和膜層機械性能等，因此市面上鍍制膜層，對膜層要求比較高，幾乎都采用磁控濺射鍍膜技術(shù)來實現(xiàn)。

磁控濺射鍍膜技術(shù)有一下幾點優(yōu)勢

1.沉積速率大。由于采用高速磁控電極，可獲得的離子流很大，有效提高了此工藝鍍膜過程的沉積速率和濺射速率。與其它濺射鍍膜工藝相比，磁控濺射的產(chǎn)能高、產(chǎn)量大、于各類工業(yè)生產(chǎn)中得到廣泛應(yīng)用。    

2.功率效率高。磁控濺射靶一般選擇200V-1000V范圍之內(nèi)的電壓，通常為600V，因為600V的電壓剛好處在功率效率的*高有效范圍之內(nèi)。

濺射能量低。磁控靶電壓施加較低，磁場將等離子體約束在陰極附近，可防止較高能量的帶電粒子入射到基材上。

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  卷柔減反射(AR)玻璃的特點:高透,膜層無色,膜硬度高,抗老化性強(耐候性強于玻璃),玻璃長期使用存放不發(fā)霉,且有一定的自潔效果.AR增透減反膜玻璃產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于**文博展示、低反射幕墻、廣告機玻璃、節(jié)能燈具蓋板玻璃、液晶顯示器保護玻璃等多行業(yè)。
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    上海卷柔科技以現(xiàn)代鍍膜技術(shù)為核心驅(qū)動力，通過鍍膜設(shè)備、鍍膜加工、光學(xué)鍍膜產(chǎn)品服務(wù)于客戶，努力為客戶創(chuàng)造新的利潤空間和競爭優(yōu)勢，為中國的民族制造業(yè)的發(fā)展貢獻力量。