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鈣鈦礦薄膜缺陷調(diào)控策略在太陽能電池中的應(yīng)用

日期:2025-01-10 20:54
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摘要:鈣鈦礦薄膜缺陷調(diào)控策略在太陽能電池中的應(yīng)用


鈣鈦礦薄膜缺陷調(diào)控策略在太陽能電池中的應(yīng)用


需要增透減反技術(shù)可以聯(lián)系我們上海工廠18917106313

上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件的高科技企業(yè),公司2005年成立在上海閔行零號灣創(chuàng)業(yè)園區(qū),專業(yè)的光電鍍膜公司,技術(shù)背景依托中國科學(xué)院,卷柔產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工;光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡,平板顯示,安防監(jiān)控等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開發(fā)和生產(chǎn),為全球客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。




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加速對太陽能的利用是實現(xiàn)我國碳中和目標(biāo)的重要途徑, 而鈣鈦礦太陽能電池(Perovskite solar cells, PVSCs)是光伏領(lǐng)域當(dāng)前的研究熱點之一。作為光吸收材料, 鈣鈦礦晶體展現(xiàn)出優(yōu)異的光電性能,如高吸光系數(shù)、長載流子擴散距離等。鈣鈦礦材料通式為 ABX3 , 其晶體結(jié)構(gòu)如圖 1 所示。其中,  A 為單價陽離子, 如 CH3NH3+  (MA+)、CH(NH2)2+ (FA+)、Cs+等;  B 為過渡金屬二價離子, 如 Pb2+ 或 Sn2+ 等; X 為鹵素離子(Cl-、Br-、I-)。低廉的原料價格和可溶液加工特性降低了器件制備成本, 有利于大規(guī)模制備生產(chǎn)。更重要的是, 鈣鈦礦材料的帶隙可通過組分調(diào)控在 1.2~3.0 eV 間靈活調(diào)節(jié), 適用于鈣鈦礦/鈣鈦礦、鈣鈦礦/硅基等疊層電池, 極大地提升了器件效率。近十年, 單結(jié)鈣鈦礦太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率(Power conversion efficiency, PCE)從*初 3.8%  迅猛攀升至*新認(rèn)證的 25.5% 使鈣鈦礦太陽能電池有望成為下一代商品化光伏技術(shù)。
然而, 鈣鈦礦太陽能電池的商業(yè)化仍需要解決諸多問題。首先,材料自身缺陷導(dǎo)致大量電荷重組損失,造成 PCE 遠(yuǎn)低于 Shockley-Queisser 理論極限 (>30%),尚有較大改進(jìn)空間。其次,缺陷的形成及遷移導(dǎo)致器件重現(xiàn)性差及出現(xiàn)嚴(yán)重的電流–電壓遲滯現(xiàn)象。*后,為了降低電力成本,如何實現(xiàn)高效率的大面積 PVSCs  組件至關(guān)重要(目前實驗室規(guī)模通常<1 cm2)。但在大面積情況下,多晶鈣鈦礦薄膜中的晶格無序程度和缺陷密度也會顯著惡化,從而導(dǎo)致大面積鈣鈦礦器件效率難以提高。為推動 PVSCs 的商業(yè)化進(jìn)程,抑制鈣鈦礦晶體中缺陷對器件效率及穩(wěn)定性的負(fù)面影響勢在必行。因此,有必要了解鈣鈦礦薄膜缺陷的形成、類型、能級位置和抑制方法。

一、鈣鈦礦薄膜缺陷的類型

當(dāng)前高性能的鈣鈦礦光伏器件多數(shù)采用有機– 無機鈣鈦礦為光吸收層。與金屬鈣鈦礦氧化物相比,  有機–無機雜化鈣鈦礦的有機離子組分具有更大的


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圖 1 鈣鈦礦晶體結(jié)構(gòu)圖

極化特性, 低價態(tài)的鹵素離子間相互作用也更弱。這些特性造成它們對環(huán)境(水、熱、氧等)十分敏感, 在溶液制備及長時間運行過程中易于形成各種缺陷(空位、間隙、重排等)。這些缺陷會俘獲光生電子或空穴, 進(jìn)而與帶有相反電荷的載流子復(fù)合而淬滅。非輻射復(fù)合導(dǎo)致穩(wěn)態(tài)電荷密度降低以及電子和空穴準(zhǔn)費米能級分裂降低, *終造成開路電壓(Voc)損失。此外, 表面和晶界處的缺陷還會降低電荷的提取效率, 從而影響短路電流(Jsc)和填充因子(FF)。缺陷的帶電特性使其在電場作用下可發(fā)生移動, 從而造成鈣鈦礦的降解、能帶彎曲、相分離和遲滯現(xiàn)象等, 不利于器件的光電轉(zhuǎn)化效率和穩(wěn)定性。

如圖 2(a) 所示, 鈣鈦礦晶體的缺陷可分為本征點缺陷、二維缺陷(晶界和表面缺陷)及三維缺陷(如針孔、鉛簇), 其存在取決于形成能。其中,  點缺陷形成能低, 占主體地位, 其它形成能高的缺陷占比較低。以常見的甲基銨鉛三碘化物鈣鈦礦 (MAPbI3)  為例, 本征點缺陷主要包括三種空位 (VMA、VPb、VI)、三種間隙(MAi、Pbi、Ii)、兩種陽離子取代(MAPb、PbMA)和四種反位取代(MAI、PbI、 IMA、IPb)。由于鈣鈦礦晶格的離子特性, 這些點缺陷通常缺電子或富電子。圖 2(b)  總結(jié)了這些本征給體和本征受體缺陷的躍遷能級, 其中深層缺陷有 IMA、 IPb、Pbi、PbI, 其余點缺陷皆為淺層缺陷。因能級不同, 缺陷對器件性能的影響程度也不同。深層缺陷在捕獲電子或空穴后會導(dǎo)致大量非輻射復(fù)合, *終造成器件效率下降。淺層缺陷雖然也能捕獲電子或空穴, 但由于能量位置距離鈣鈦礦價帶或?qū)л^近,  在聲子激發(fā)下被捕獲的電子或空穴又可以回到價帶或?qū)е? 對于電荷重組的影響基本可以忽略。但是, 淺層缺陷在電場作用下的遷移會導(dǎo)致器件穩(wěn)定性下降。由此, 無論是深層缺陷還是淺層缺陷都需要進(jìn)行抑制, 以提升器件光伏性能。

基于 Lewis  酸堿理論, 可以利用各種添加劑對鈣鈦礦薄膜缺陷進(jìn)行鈍化。具體而言, 富電子缺陷可與 Lewis  酸或陽離子發(fā)生相互作用, 缺電子缺陷可與 Lewis 堿或陰離子進(jìn)行相互作用。如圖 2(c) 所示, 從缺陷處理方式來看, 一方面, 可以將不同類型的材料添加至鈣鈦礦前驅(qū)體溶液或反溶劑中,  在晶體生長過程中抑制缺陷的生成; 另一方面, 可以通過后處理對鈣鈦礦薄膜表面缺陷進(jìn)行去活, 或者在鈣鈦礦/電荷傳輸層間引入二維鈣鈦礦, 從而減少界面非輻射復(fù)合損失。下文列舉了近年具有代表性的缺陷鈍化材料, 并重點闡述缺陷處理對鈣鈦礦晶體性質(zhì)及光伏性能的影響。

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圖2 (a)鈣鈦礦薄膜中的缺陷示意圖; (b)MAPbI3 中本征受體及本征給體 缺陷的躍遷能級; (c)各種缺陷調(diào)控策略的示意圖

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上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件的高科技企業(yè),公司2005年成立在上海閔行零號灣創(chuàng)業(yè)園區(qū),專業(yè)的光電鍍膜公司,技術(shù)背景依托中國科學(xué)院,卷柔產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工;光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡,平板顯示,安防監(jiān)控等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開發(fā)和生產(chǎn),為全球客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。

    采用德國薄膜制備工藝,形成了一套具有嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系,能夠制備各種超高性能光學(xué)薄膜,包括紅外薄膜、增透膜,ARcoating,激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜,應(yīng)用領(lǐng)域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、光學(xué)科研,紅外制導(dǎo)、面部識別、VR/AR應(yīng)用,博物館,低反射櫥窗玻璃,畫框,工業(yè)燈具照明,廣告機,點餐機,電子白板,安防監(jiān)控等。
    卷柔新技術(shù)擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的全自動生產(chǎn)線【sol-gel溶膠凝膠法鍍膜線】,這條生產(chǎn)線能夠生產(chǎn)全球先進(jìn)的減反射玻璃。鍍膜版面可達(dá)到2440*3660mm,玻璃厚度從0.3mm到12mm都可以,另外針對PC,PMMA方面的增透膜也具有量產(chǎn)生產(chǎn)能力。ARcoating減反膜基本接近無色,色彩還原性好,并且可以避免了磁控濺射的缺點,鍍完增透膜后玻璃可以做熱彎處理和鋼化處理以及DIP打印處理。這個難度和具有很好的應(yīng)用性,新意突出,實用性突出,濕法鍍膜在價格方面也均優(yōu)于真空磁控的干法。


  卷柔減反射(AR)玻璃的特點:高透,膜層無色,膜硬度高,抗老化性強(耐候性強于玻璃),玻璃長期使用存放不發(fā)霉,且有一定的自潔效果.AR增透減反膜玻璃產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于**文博展示、低反射幕墻、廣告機玻璃、節(jié)能燈具蓋板玻璃、液晶顯示器保護玻璃等多行業(yè)。
    我們的愿景:卷柔讓光學(xué)更具價值!
    我們的使命:有光的地方就有卷柔新技術(shù)!
    我們的目標(biāo):以高質(zhì)量的產(chǎn)品,優(yōu)惠的價格,貼心的服務(wù),為客戶提供優(yōu)良的解決方案。
    上海卷柔科技以現(xiàn)代鍍膜技術(shù)為核心驅(qū)動力,通過鍍膜設(shè)備、鍍膜加工、光學(xué)鍍膜產(chǎn)品服務(wù)于客戶,努力為客戶創(chuàng)造新的利潤空間和競爭優(yōu)勢,為中國的民族制造業(yè)的發(fā)展貢獻(xiàn)力量。