用于寬帶電磁波吸收的柔性Mo-SiC/C NFs的合成及性能研究
用于寬帶電磁波吸收的柔性Mo-SiC/C NFs的合成及性能研究
陜西科技大學(xué)原曉艷:用于寬帶電磁波吸收的柔性Mo-SiC/C NFs的合成及性能研究
DOI: 10.1002/admi.202200333
一維結(jié)構(gòu)材料在電磁(EM)波能量損耗方面表現(xiàn)出顯著的優(yōu)勢。本文**以聚碳硅烷(PCS)和鉬乙酰丙酮(MoO2(acac)2)為前驅(qū)體,通過共靜電紡絲和隨后的高溫?zé)峤夂铣闪巳嵝訫o2C改性SiC/C納米纖維(Mo-SiC/C NFs))。研究發(fā)現(xiàn),通過引入MoO2(acac)2可以顯著降低PCS的聚合物衍生溫度,并賦予SiC/C NFs良好的柔性、高結(jié)晶度和較強(qiáng)的微波吸收性能。將所制備的纖維以較低含量(15wt%)分散在石蠟中,其*小反射損耗(RL,dB)為-62.5dB,在2.75mm下的有效吸收帶寬(EAB,RL<-10dB)為6.8GHz。同時(shí),可以通過調(diào)節(jié)該雜化材料的厚度來使其EAB覆蓋整個(gè)X波段和大部分C波段。這些高性能主要源于特定的一維微觀結(jié)構(gòu)、豐富的界面和缺陷以及SiC、Mo2C和C基體之間的協(xié)同效應(yīng)。因此,這項(xiàng)工作提供了一種探索柔性SiC/C NFs的方法,使其有望成為一種具有輕質(zhì)性和寬EAB的電磁波吸收材料。
圖1.柔性Mo-SiC/C NFs的形成步驟示意圖。
圖2.a)所制備NFs的FT-IR透射光譜(KBr)和b)XRD圖譜,c)預(yù)氧化NFs和d)Mo-SiC/C-1100 NFs的SEM圖像,以及e,f)Mo-SiC/C-1100 NFs的TEM圖像,相應(yīng)的STEM圖像和g)C、Si、Mo的元素映射圖像,以及h)SAED圖譜。
圖3.a)在1100℃和b)1200℃下處理的陶瓷NFs的拉曼光譜。
圖4.a)Mo-SiC/C-1100 NFs的XPS全掃描光譜,以及b)C1s、c)Si2p和d)Mo3d的高分辨率XPS光譜。
圖5.a)由較低含量(15wt%)的NFs與石蠟復(fù)合而成的雜化材料的ε'、b)ε”、c)介電損耗角正切和d)衰減常數(shù)隨頻率的變化。
圖6.a)Mo-SiC/C-1100/石蠟在不同厚度下計(jì)算的RL,b)對應(yīng)頻率下EAB與厚度的關(guān)系,c)阻抗匹配度與(1/4)λ的關(guān)系曲線。d)不同一維吸收體的*佳EAB與填料負(fù)載量的關(guān)系。
圖7.Mo-SiC/C NFs的電磁波損耗機(jī)理示意圖。
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文章來源:易絲幫 http://www.espun.cn/
材料需要增透減反膜,聯(lián)系上海卷柔材料
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