濾光片的直接可測量的光學性能標準

目前為止，我們討論了濾光片的直接可測量的光學性能，但是仍有一些物體的自然屬性相當難以測量，這些與薄膜和基底的質量和加工有關。對于任何光學組件，基底都是會被詳細描述的，如表面的面形、拋光程度和允許的玷污、光潔度等，這里我們不應該進一步考慮基底。有一個指標MIL-E13830A，特別是在美國被廣泛應用，這為包括基底在內的光學元件提供了一套有效的標準。

     鍍膜的質量可以通過是否存在缺陷來衡量，如針孔、污點、濺射標記及未鍍膜區(qū)域。針孔的重要性主要有兩個原因。

**，他們實際上時很小的未鍍膜區(qū)域或者部分未鍍膜區(qū)域，這些區(qū)域將會使額外的光透射截止區(qū)，從而降低濾光片的整體性能。

**，特別是對于可見光區(qū)的濾光片，這些不足會影響整體的美觀。實際上，與它們在實際中對性能的影響相比，它們使外觀看起來更糟。除了單純的外觀判斷，我們可以根據一定尺寸單位面積上給定的*大數值來確定針孔的允許大小，這個*大數值是通過計算濾光片的截止度降低到一個給定數值時的針孔數目。

      為了計算這一數值，必須對將會隨時用到的濾光片的*小面積進行假定。這主要取決于實際應用，但是當在這一方面缺少明確的信息時，合適的數值是5mm×5mm。很明顯，這一面積越小，*大針孔的數目便越小。當然，在任何濾光片中，針孔的實際計算將涉及高昂的勞動量，在實際中將濾光片與參考樣品相比較，對于可見光濾光片進行測量常常是視覺上的。

     一個含有燈箱的簡單固定支架可以很容易的搭建起來，在其上面放置很多濾光片，可以和參考樣品比較判斷是否符合要求。對于透明基底上的紅外濾光片，這一方法仍然可以使用，但是對于在不透明的基底上的濾光片，則更易的是測量其實際的截止性能。濺射痕跡是由蒸發(fā)源噴出的材料碎片造成的。

     一般而言，它對光學性能幾乎沒有影響，除非數量巨大。一個重要風險是材料碎片可能掉落而出現針孔。有時濺射過程可能會引起節(jié)瘤的增長從而帶來相關問題，或者如果大量的濺射碎屑存在，散射損耗可能會增加。就像控制針孔一樣，這種情況是可以控制的，但是因為鏡面反射光學性能幾乎不會被影響到，除非濺射痕跡的數量非常大，決定允許值的方式常常是主觀的。如果濺射產生了針孔，這些針孔將單獨處理。

      通常指標中會陳述：無裸眼可見的濺射痕跡，但是這種描述非常模糊，特別是當檢查員沒有光學經驗時。當用戶的檢查員用鏡片來輔助裸眼進行觀測時，用戶和制造商之間的分歧會產生。當它能夠像測試針孔一樣采用同樣**的方法時，*好的用途是將測試與雙方商定的參考樣品相關聯。

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